池田屋新品發布ULVAC殘余氣體分析儀CGM2-051

近期我司新品發布ULVAC殘余氣體分析儀CGM2-051
近期我司新品發布ULVAC殘余氣體分析儀CGM2-051
發布日期
2025年12月29日



ULVAC殘余氣體分析儀CGM2-051產品介紹

一、產品概述

CGM2-051是ULVAC推出的一款?高精度、易用型殘余氣體分析儀?，專為真空工藝中的氣體監測和過程控制設計。它繼承了ULVAC在真空技術領域的深厚積累，特別適合需要高精度氣體分析的工業場景，比如半導體制造、光伏和真空鍍膜等。

二、核心特點

1. ?高精度與高分辨率?
   這款分析儀在高壓環境下依然能保持出色的精度和分辨率，能準確檢測到痕量氣體成分，比如H2O等雜質，非常適合對氣體純度要求工藝過程。

2. ?極簡設計與易用性?
   CGM2-051采用了極簡設計，操作非常友好，甚至支持“一鍵式"功能，大大降低了使用門檻。它還集成了顯示功能，不需要外接PC就能完成大部分操作，非常方便。

3. ?高溫烘烤與脫氣功能?
   設備支持120°C的高溫烘烤（移除傳感器時可達250°C），能有效去除傳感器表面的污染物，保持長期穩定性。它還具備電子轟擊脫氣功能，進一步提升了分析的可靠性。

4. ?全面的保護與維護?
   它內置了離子源和二次電子倍增器的保護機制，能有效延長設備壽命。此外，還提供了氦氣泄漏測試、空氣泄漏測試等多種測試功能，方便用戶進行日常維護。

三、典型應用場景

1. ?半導體制造?
   在PVD（物理氣相沉積）系統中，CGM2-051能實時監測殘余氣體，幫助控制雜質（如H2O）含量，提升工藝穩定性和產品良率。

2. ?光伏與FPD行業?
   在薄膜太陽能電池和平板顯示器的生產過程中，它可用于過程監控和泄漏檢測，確保生產環境符合高潔凈度要求。

3. ?真空鍍膜?
   在濺射、蒸鍍等真空鍍膜工藝中，CGM2-051能精準分析工藝氣體，優化鍍膜質量，減少缺陷。

四、總結

CGM2-051是一款?高精度、易操作、高可靠性?的殘余氣體分析儀，特別適合對氣體分析要求嚴苛的工業領域。它的極簡設計、高溫烘烤和全面保護功能，讓它成為工藝控制和過程優化的得力助手。